产品描述
设备名称：光掩膜清洗装置
商品编号：HA0800
型号：TW-300
制造商：TECHNOVISION
年份：1997年8月
类别：半导体
规格参数：
1、掩模尺寸360mm × 460mm
2、设备尺寸1,070mm(W) × 700mm(D) × 1,815mm(H)
3、工作高度1,200mm
4、重量280Kg
特点：用一台设备快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。用擦洗清洗专用刷子，不划伤工件，可以进行精密清洗，没有清洗不均匀。因为是立式处理，所以设计时不会给工件带来压力。小批量，多品种，最适合研发应用的基板清洗。准备各种尺寸专用的工作夹，并准备适应自由尺寸的工作夹。此外，工件接触部分用树脂处理。
用途：光掩模半导体，液晶，有机EL，彩色滤光片，薄膜器件，IC封装，PWB，PCB，FPC等，板状基板等可清洗。
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