全自动真空沉积设备

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产品描述

设备名称:全自动真空沉积设备
商品编号:L40514
制造商:SHINKO SEIKI
型号:AAMF-C2280SBR
制造日期:2007年
类别:半导体
规格参数:
1、成膜系统
2、处理室内尺寸φ800mm × H1300mm
3、蒸发源坩埚6单元式 (12cc × 6点)
4、膜厚分布±10%
5、蒸发法电子枪
6、基板加热350℃
7、排气系统
8、到达压力4 × 10-5Pa以下
9、主泵低温泵
10、蒸发法电子枪
11、基板加热350℃

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