产品描述
新设备：实验・研究用曝光装置 MA-1200；制造商：日本制造商
简介：简练设计的手动式整面单次曝光装置。
主要特长：对应玻璃、Wafer、胶片等基材的实验研究用手动整面单次曝光机。也适合小批量生产。可选择接触曝光(软接触、硬接触)和近接曝光。对应最大尺寸为500mm×500mm的基板。根据用途和基板尺寸,配置有最佳组合的光学系统。其中包括:超高压水银灯(500W､1kW､2kW､3.5kW)、各种光学镜、特殊镜头、聚光镜等。
主要规格：
1、基板尺寸：最大 200 × 200mm ø4″ ～ ø6″
2、光源：超高压水银灯 ：500W or 1kW
3、本体尺寸：W1240 × D1100 × H1725 mm
4、本体重量：400kg
5、选购项：无尘机房、背面对位、硬接触(真空密着式)、自动对位、对应破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。
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