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电子束光刻系统 CABL-UH（130kV）

所属分类：

二手设备仪器

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产品描述

新设备：电子束光刻系统 CABL-UH（130kV）series；制造商：日本制造商
简介：使用较高的加速电压，EB抗蚀剂的前向散射较少。 CABL-UH型号的精度可达小于10nm。您可以根据您的预算选择90kV，110kV或130kV。光束直径: < 1.6 nmΦ、相关电压: 130 kV, 110 kV 或 90 kV、作业平台尺寸: 8寸晶圆 (最大）　可能4寸、6寸晶圆型号。
特色：
1、 Vacc: 130kV Max (25-130kV, 5kV steps)
2、单一平台级加速能力高达130kV，以最小化EOC尺寸
3、微电子自由电子枪
4、光束直径：> 1.6nm
5、发射极和阳极之间的静电透镜设计使用于实现消隐非常低的像差和短距离电极中心的交叉图像
6、使用双重热控制器实现了超稳定的写入能力
产品规格：
1、Electron Emitter/Acceleration voltage：TFE(ZrO/W)/25～130kV
2、Min. beam diameter：1.6nm
3、Scan method Vector scan (x,y) (Standard)
4、Vector scan (r,θ), Raster scan, Spot scan (Optional)
5、Advanced lithography functions (Optional)：Field size modulation lithography，axial symmetry pattern lithography
6、Field size：30μm□, 60μm□, 120μm□, 300μm□, 600μm□, 1000μm□
7、Work piece size：4, 6, 8inchΦ (work pieces of other sizes and other shapes can be mounted with our flexible contrivances)
8、CAD software：Dedicated CAD (Standard), GDSⅡconversion (Optiional), DXF conversion (Optional)
9、OS：Windows