产品描述
新设备:电阻加热式牵引装置(CZ法):日本制造商
概述:该装置是使用电阻加热的CZ(Czochralski)法拉拔装置。它是一种应用最多的单晶生长装置,其中将晶种浸入坩埚中的熔体中,并在旋转的同时将晶体拉起。标准ADC(Automatic Diameter Control)系统可在自动控制晶体直径的同时进行生长。
腔室:圆柱形水冷双结构,耐真空结构、ID1000×1400mm
热源:加热器(碳、钽等)
加热能力:主70kW、底60kW
加热温度:最高2100℃
气氛:惰性气体、真空
真空排气装置:油扩散泵 + 旋转泵
控制装置:具有ADC功能的晶体生长装置
数据输出:温度、晶体重量、各功能部件移动速度、位置信息等 、安全电路
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