自动曝光机 ANEX-A2161 4CCD

ADTEC Anex-A2161 4CCD是一款高精度的自动平行曝光系统,专为光刻研究和开发而设计。以下是关于Anex-A2161 4CCD的一些关键产品信息和特性: 高分辨率投影系统:Anex-A2161配备了一个高分辨率的红宝石激光投影系统以及一个具有高质量CCD传感器的广域相机,能够与基板上的设计模式精确对齐。 高精度玻璃面罩舞台:该设备采用了高精度的玻璃面罩舞台,使直接视觉对准面罩设计成为可能。 先进的图像处理单元:Anex-A2161拥有一个先进的图像处理单元,用于测量、处理和投影基板上的光掩模设计。这可以通过精确的预设放大和旋转来完成,从而可以精确调整设计中的各个点。 多种应用:该设备不仅可用于光刻研究和开发,还可用于直接激光书写和投影辅助光学成像等多种应用。 三维目标定位资产:Anex-A2161包含三维目标定位资产,允许精确定位和移动基板或掩模,这在将遮罩设计投影到基板上时提供了高精度。 测光设备:曝光模型还包括测光设备,在确定对曝光的电阻时提供准确的曝光结果。 用户友好的操作:Anex-A2161是一个功能强大、用户友好且精确的光刻曝光系统,兼具多种特性,是研发应用的理想选择,提供精确度和准确性,最大的灵活性。 先进的光学和运动系统:Anex-A2161结合了一整套功能和高水平的操作精密程度,为任何光刻应用提供了最佳效果。其先进的光学和运动系统相结合,使其成为各领域精密成像的理想工具,从纳米技术和半导体制造到光学和光子学研究。

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产品描述

ADTEC Anex-A2161 4CCD是一款高精度的自动平行曝光系统,专为光刻研究和开发而设计。以下是关于Anex-A2161 4CCD的一些关键产品信息和特性:

  1. 高分辨率投影系统:Anex-A2161配备了一个高分辨率的红宝石激光投影系统以及一个具有高质量CCD传感器的广域相机,能够与基板上的设计模式精确对齐。

  2. 高精度玻璃面罩舞台:该设备采用了高精度的玻璃面罩舞台,使直接视觉对准面罩设计成为可能。

  3. 先进的图像处理单元:Anex-A2161拥有一个先进的图像处理单元,用于测量、处理和投影基板上的光掩模设计。这可以通过精确的预设放大和旋转来完成,从而可以精确调整设计中的各个点。

  4. 多种应用:该设备不仅可用于光刻研究和开发,还可用于直接激光书写和投影辅助光学成像等多种应用。

  5. 三维目标定位资产:Anex-A2161包含三维目标定位资产,允许精确定位和移动基板或掩模,这在将遮罩设计投影到基板上时提供了高精度。

  6. 测光设备:曝光模型还包括测光设备,在确定对曝光的电阻时提供准确的曝光结果。

  7. 用户友好的操作:Anex-A2161是一个功能强大、用户友好且精确的光刻曝光系统,兼具多种特性,是研发应用的理想选择,提供精确度和准确性,最大的灵活性。

  8. 先进的光学和运动系统:Anex-A2161结合了一整套功能和高水平的操作精密程度,为任何光刻应用提供了最佳效果。其先进的光学和运动系统相结合,使其成为各领域精密成像的理想工具,从纳米技术和半导体制造到光学和光子学研究。

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