薄膜沉积设备

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产品描述

设备名称:薄膜沉积设备
商品编号:VA3D02
制造商:SHINCRON
型号:BMC-800W
年份:1998年
机械规格:
1、腔室尺寸:W800 约 H1100 mm
2、安装面积: W4800 D3800 mm
3、排气:扩散泵 + MBP + RP 
4、电源:EB3kw

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