产品描述
新设备：MEMS立式炉、制造商：日本制造商
简介：MEMS向けて豊富な出荷実績。、LP-CVDでは厚膜低応力Si3N4膜やPoly-Si膜に対応可能。
特長：生産ラインに合わせ、フレキシブルな装置構成可能、オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載、5枚一括＋枚葉搬送ロボットによる高速ウェーハ搬送、LGOヒータ搭載により、低温から中高温まで優れた温度特性を発揮、ガスクリーニング対応でメンテナンス頻度を削減
仕様：～Φ200mmのウェーハに対応し、50～150枚処理まで選択が可能な生産ラインにあわせフレキシブルに対応。各種ご要求に応じ、応力制御も可能です。
1、型式：VF-5100
2、本体寸法(mm)：900(W)×1850(D)×2930(H)、1000(W)×1950(D)×3300(H)
3、ヒータ：LGOヒータ
4、均熱長(mm)：750、960
5、ウェーハサイズ(mm)：～Φ150、Φ200
6、一処理枚数：150枚、100枚(※)
7、使用温度：140～1150℃
8、ウェーハ搬送：5枚一括＋枚葉
9、オプション：N2ロードロック、ホスト通信、各種サイズのウェーハ兼用可能、ボート回転機構
10、処理：酸化、拡散、LP-CVD、各種アニール
11、処理品：Si
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