产品描述
设备名称：RIE等离子蚀刻系统
商品编号：K30040
型号：RIE-200NL
制造商：samco
类别：半导体
年份：2008年
概要：RIE-200NL是一种负载锁定型的反应离子蚀刻系统，它提高了工艺的可重复性，并允许腐蚀性气体化学。完全优化的工艺室设计可在ø8 "晶圆或ø220mm小晶圆的载盘上提供优异的均匀性。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。RIE-200NL设计时尚、紧凑，只需最小的洁净室空间。
主要特点和优点：
1、 最大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
2、对称的排空设计提高了蚀刻的均匀性。
3、工艺室通过负荷锁定室与环境隔离，提高了工艺的可重复性，并可进行腐蚀性气体的化学反应。
4、计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。
5、自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。
6、干式泵和系统布局便于维护。
7、RIE-200NL设计时尚、紧凑，只需最小的洁净室空间。
应用： GaN、GaAs、InP等化合物半导体的氯基蚀刻。各种材料的蚀刻，如Si、SiO2、SiN、Poly-Si、Al、Mo、Pt、Polyimide等。故障分析中的选择性层蚀刻。
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