产品描述
新设备：实验用卧式炉、制造商：日本制造商
简介：Φ150mmウェーハ対応、R&D用卓上型ランプ装置。雰囲気での処理も可能。
特長：Φ150mmまでウェーハサイズに対応、上下面クロスランプ構造の採用で面内温度均一性を向上、加熱炉と制御盤の別体化でレイアウトが自由。
仕様：従来のランプアニール装置では不可能であった400℃以下の温度でも制御可能な実験・開発用装置です。ハロゲンランプを熱源とする平面加熱方式の熱処理装置です。
1、本体寸法(mm)：682(W)×555(D)×340(H)
2、使用温度範囲：300～1000℃
3、昇温レート：100℃c
4、ランプ配列：上下面クロス配列
5、制御ゾーン数：6
6、ウェーハサイズ(mm)：Φ150
7、オプション：サセプタ
8、用途：アニール
9、処理品：Φ150mmウェーハ、156mm角PVセル
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