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栅极绝缘膜立式炉

所属分类：

二手设备仪器

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产品描述

新设备：栅极绝缘膜立式炉、制造商：日本制造商
简介：可高温处理，非常适合SiC功率器件的制造。可以进行氧氮化处理。R&D~量产为止可使用的~Φ200 mm晶片对应的自动搬运搭载纵型炉。
特点：迷你批量、50片加工、R&D至量产生产线，~Φ200 mm，支持广泛的晶圆尺寸，炉内为本公司独有的无金属结构
可以连续处理各种氧化/氧氮化(Wet/Dry氧化、H2退火、NH3氮化、NO/N2O氧氮化)、腔室清洁机构(可选)
规格：迷你批量，可处理50片，适用于Φ75~Φ200 mm范围内的晶片尺寸。是精选硬件和控制系统内容的竖炉。炉内是本公司独有的无金属结构。可高温处理，非常适合功率器件制造。可以进行氧氮化处理。
使用温度範囲：700～1400℃
晶片尺寸(Mm)：Φ75~Φ200
最大処理枚数：50枚
使用气体：N2，Ar，H2，NO，N2O，NH3
可选：N2加载锁，室清洁机制
処理：酸窒化、窒化、酸化