产品描述
新设备:液相外延设备(LPE炉);制造商:日本制造商
简介:使用双快门轻松实现热平衡、化合物单晶生长装置。
概述:LPE设备(Liquid Phase Epitaxial)是一种在液相中生长薄膜晶体的设备。使用3区加热器可以获得最佳温度梯度。
特点:快门是双重的,使均热更容易采取、助焊剂可从顶部排出、高精度基板升降、旋转驱动机构。
规格:
加热方式:电阻加热方式、3区
加热器:坎塔尔超级、各种金属加热元件(Mo、W、Ni、Cr)
加热温度:800~1300℃
均热长度:150mm±1℃(空炉)
提升速度:高速5~200mm/min、低速0.5~20mm/h
转速:1~30rpm/min(CW、CCW)
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