等离子表面处理设备

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产品描述

设备名称:等离子表面处理设备
商品编号 :1ASHkos-ryd-P8013
制造商:KOSTEK
型号: Rydeen 8400
年份:2015年
设备尺寸(W × D × H): 1,230 × 2,490 × 2,020mm
晶圆尺寸: 150mm, 200mm & 300mm
Specifications: Specification:
1、Production type:PR, PI, PBO, BCB…
2、Cassette used:150mm, 200mm Open Cassette. 300mm Foup
3、Product loading capacity:Max 110 wafers / hour
4、Wafer breakage rate:Per 100,000 wafers
5、Particle:Under 20ea over 0.2um 
6、Ashing Uniformity:for PR : under 5%、for PI : under 7%
Process module:
1、Chamber:2 chambers, separate process for each chamber 60L for 27.12Mhz ICP / 38L for 13.56Mhz ICP
2、plasma type:Balanced ICP
3、APC:Pascal (10Pa~200Pa) 
4、Stage Temp:20℃
5、RF power (Top):27Mhz(5KW) or 13.56Mhz(2KW) 
6、RF power (Bottom):2Mhz(0.5KW~1KW)
7、Process gas:Basic configuration: O2/N2/CF4/Ar 
8、Recipe capacity:About 100 lot recipes

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