产品描述
新设备：300mm大批量立式炉 、制造商：日本制造商
简介：酸化・拡散・LP-CVD、アニール他の熱処理に対応できる装置。高さ3000mm以下でサイズ的に導入しやすく、短タクトタイム・高スループットを実現したモデル。
特長：ミニバッチ、25～50枚一括処理でフレキシブルな処理能力を発揮、高速昇温可能なハイパワーヒータ搭載でスループット向上、枚葉による高速ウェーハ搬送、オペレータフレンドリーな高機能制御システム搭載
仕様：Φ300mmウェーハの短タクトタイム・高スループット処理が可能なミニバッチ25～50枚一括処理タイプの縦型拡散炉です。ストッカースペースを削減した設計のため、全高3000mm以下で導入しやすいサイズになっています。ストッカーレスで導入されるケースも多く、ストッカー関連のコストを抑えることも可能です。LGOヒータ採用で低温～中高温までの広い範囲で優れた温度特性を発揮します。
1、本体寸法(mm)：1100(W)×2000(D)×2950(H)
2、ヒータ：LGOヒータ
3、均熱長(mm)：500
4、ウェーハサイズ(mm)：Φ300
5、一処理枚数：50枚
6、I/Oポート：2
7、ウェーハ搬送：枚葉
8、オプション：N2ロードロック、強制冷却システム、5枚一括+枚葉（ウェーハ搬送）、均熱長750mm（最大処理枚数75枚）、ボート回転機構、ホスト通信
9、処理：酸化・拡散・LP-CVD処理、アニール他
10、処理品：Si
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