产品描述
新设备:Ø200mm 兼容曝光机 MA-4301M;制造商:日本制造商
简介:
主要特长:搭载本公司独创的镜面光学系统爆光灯房(LAMP HOUSE)。从而实现了照射面内的均匀性以及高照度。、采用本公司独创的同轴对位方式和高速图像处理技术, 从而实现了高精度对位。还支持IR方式和背面方式。通过本公司独创的光学式间隙传感器,可在非接触状态下高速、精确的设定掩膜和基板间的近接间隙。搭载有掩膜更换机。最多可自动更换20张掩膜。、最多可搭载3台片仓(Load port)。
主要规格:
1、Wafer尺寸:Ø300mm
2、对位:非接触预对位~自动对位
3、光源:超高压水银灯:3.5kW
4、本体尺寸:W 2450 × D 2400 × H 2300 mm
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