产品描述
新设备:单片输送小批量立式炉、制造商:日本制造商本装置
简介:R&D~量产为止可以使用~Φ200毫米晶片对应的自动搬送装载纵型炉。实现后工序用户也能采用的低成本。超高温处理,非常适合功率器件制造。
特点:迷你批量,可选择50~75片处理,支持从R&D到批量生产的生产线,LGO加热器搭载,从低温到中高温都具有优良的温度特性。
采用单片搬送机器人的高速晶片搬送、追求使用便利性的简易型控制系统,搭载二硅化钼加热器和碳加热器(H型),采用超高温工艺、机密性高的腔室结构。
规格:迷你批量,可选择50~75片,适用于~Φ200 mm范围内的晶片尺寸。精选硬件和控制系统的内容,从R&D用途到量产生产线都可以使用的竖炉。LGO加热器、二硅化钼(MoSi2)加热器和碳加热器可用于氧化、扩散、LP-CVD以及超高温工艺,包括SiC功率器件的栅氧氮化和活化退火处理。
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