产品描述
新设备：多功能蒸镀装置；制造商：日本制造商
概要：利用化学反应沉积膜的方法的CVD装置。
装置结构：石英管用真空室、石英管、电炉/控制电源、真空计、排气系统。
规格：
1、可变温度范围：200℃～1000℃
2、石英管尺寸：φ80～200
3、供电：200V
4、到达真空度：1×10-5Pa以下
5、偏置电源：0～500V
选配：质谱仪、质谱仪用差动排气室。
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