投影曝光设备

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产品描述

新设备:投影曝光设备:  制造商:日本制造商
简介:独自開発した高NA投影光学を搭載した、等倍投影露光装置、厚膜レジストにも対応可能。ウエハ、FPC等の用途により搬送システムの提案可能
用途:MEMS LED 水晶 FPC等
仕様:最大6インチ、アライメント精度±1μ、※オプションでバックサイドアライメントの対応可能

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