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欧姆接触用灯加热快速热处理装置

所属分类：

二手设备仪器

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产品描述

新设备：欧姆接触用灯加热快速热处理装置；制造商：日本制造商
简介：Si、GaN、SiC等各种晶片。支持N2负载锁定，提高吞吐量。
特点：标准配备真空室及N2负载锁定输送。实现高吞吐量。为SiC和GaN晶片搭载基座自动更换功能、上下都交叉设置卤素灯，通过6个区域控制可以简单地设定各自的功率比率，通过射温度计以非接触的方式测定工件的温度，可以进行反馈控制。
规格：本装置是以多个卤素灯为热源，在短时间内高精度处理晶片退火的生产用装置。
使用温度范围：400～1200℃
晶片尺寸（mm）Φ150：※Φ支持200mm
使用气体：N2、Ar、O2、H2
晶片搬运：支持N2负载锁定的洁净机器人
处理：接触退火、氧化（可在减压中处理、N2负载锁定环境中处理）