产品描述
新设备：电子线描画装置、制造商：日本制造商
概要：以电子显微镜为基础，是一种兼顾观察和微细加工的电子束绘图装置。为了直接在硅晶片等各种晶片上进行描绘，无需使用光掩模即可进行微细加工。
加速电压：1~30kV(根据SEM基本规格
样品大小：最大2英寸(根据SEM基本规格)
最小線幅：0.1um
舞台配置：X-Y2轴自动Z轴手动(自动：可选)
载物台结构：重复定位±0.1um
舞台位置检测：线性编码器0.01um
特徴：観察機能との併用GUI/CAD標準装備
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