曝光机 (纳米压印)

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产品描述


亮点: 多功能且灵活的半自动NIL工具、薄而均匀的残留层、能够执行UV和热NIL工艺、通过工具选项高度可定制、多种UV模块选项,高达400mW/cm²。
规格参数“”
1、工具配置; EITRE工具的标准配置包括基于专有SoftPress技术的压印模块、计算机控制的用户界面、手动加载系统和用于非商业性研发的SoftPress技术许可证。
2、基板尺寸:≤152mmΦ
3、压印压力(最小):6-8 bar(取决于CA的入口压力)
4、压印压力(最大):80 bar
5、压印温度(最小):环境温度
6、压印温度(最大):250℃(200℃ UV模块)
7、压印温度设定精度:±2 deg
 设施要求:
1、无尘室兼容:100级
2、室内温度:18-32℃
3、相对湿度:40-65%
4、电源:AC400V 3相 32A 50/60Hz 16kVA
5、压缩的空气:6-8 bar, 40 | / min
6、排气流量:1500-3000 | / min
系统尺寸:
1、尺寸(L×W×H):100 × 75 × 180cm*
2、重量:约1000kg*

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