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气相分解用

简介：VPD BOX 特点、利用氟酸液的自然气化，将硅晶圆表面的氧化膜、氮化膜实施气相分解，使晶圆表面成为憎水状态的设备。酸液及酸气氛接...

所属分类：

二手设备仪器

关键词：

半导体

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产品描述

新设备：气相分解用、制造商：日本制造商
简介：VPD BOX 特点、利用氟酸液的自然气化，将硅晶圆表面的氧化膜、氮化膜实施气相分解，使晶圆表面成为憎水状态的设备。酸液及酸气氛接触的地方使用PTFE和PVDF材料。和半自动采样设备SC系列配套使用。
设备名称：VPDBOX-200-1M、VPDBOX-300-1M、VPDBOX-300-5M、VPDBOX-300-6M
处理晶圆上限：1枚、1枚、5枚、6枚
外形尺寸(WxDxH)(mm)(※1) 345×336×406 445×436×510 486×400×542 486×400×592
重量：6kg、8kg、15kg、18kg
安装环境：无尘通风柜内
所需外部资源：N2气体（酸氛排气用）