产品描述
新设备:超高品质大型锭生长 设备:日本制造商
简介:新技术(NOC)可培育大型高质量Si晶体。该装置采用铸造生长法、乔克拉斯基生长法(CZ)法和千普鲁斯法的优点,是一种晶体生长装置,具有生长高质量硅晶体的功能。在硅熔体顶部形成低温区域,使用种子晶体连续拉起硅晶体,从而生长锭子。
特点:炉内结构,虽然是碳热区,但颗粒减少、与CZ炉相比,运行成本降低的节能结构、远程控制功能可以从单独的房间进行培训操作、易于密封的特殊机制
规格:
晶体尺寸:最大φ500 × H400(mm)
晶体重量:最大100kg
加热方式:使用双区碳加热器进行电阻加热
加热温度:最高1600℃、常用1550℃
炉内气氛:惰性气体引起的大气压力和减压气氛
如何取出坩埚:腔室底面升降下侧取出机构
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