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硅片(晶圆)槽式自动清洗设备


新设备:硅片(晶圆)槽式自动清洗设备:制造商:SANEI中聚科芯,简介:硅片(晶圆)清洗设备介绍:研磨后清洗:去除研磨磨粒...

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霍尔效应测量装置DC常温型


新设备:霍尔效应测量装置DC常温型,制造商:日本制造商,简介:概要、半导体样品的基础物理性评价装置。设置样品,通过附属PC的操作进行控制,显示电阻率、进位类型进位浓...

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气相分解用


简介:VPD BOX 特点、利用氟酸液的自然气化,将硅晶圆表面的氧化膜、氮化膜实施气相分解,使晶圆表面成为憎水状态的设备。酸液及酸气氛接...

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